系统概述

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。

系统原理

通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材，使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。

系统配置

自动化控制器: e-Control PLC，是控制系统的核心硬件平台。

人机界面硬件: TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑，稳定可靠。

人机界面软件: NETSCADA组态软件开发平台，提供真空镀膜机的控制和监视。

系统评价:

提供多达99层一次成膜支援；

自动倒幕翻转，可实现双面镀膜；

支持Excle导入靶材、设备参数、工艺参数等；

支持电子枪像素点数量自定义控制，实现靶材的无缝隙加热控制；

针对不同加热段，采用不同蒸镀模式，保证熔料均温的同时，保证熔料效率；

一键式启动，从启动到生产结束只需轻点一下鼠标，各种生产流程自动完成；

批号式数据管理方案，实时自动保存生产信息，对生产数据有据可查；

网络化方案，提供远程组网端口，轻松实现远程多系统集中控制